蒸鍍的物(wu)理過程包(bāo)括:沉積材(cái)料蒸發或(huo)升華爲氣(qi)态粒👄子→氣(qì)态粒子快(kuai)速從蒸發(fā)源向基片(piàn)表面輸送(song)→氣态粒子(zǐ)附着在基(ji)片表💃面形(xíng)核、長大成(chéng)固體薄膜(mó)→薄膜原子(zǐ)重構或産(chǎn)生化學鍵(jian)合。
将基片(piàn)放入真空(kong)室内,以電(diàn)阻、電子束(shù)、激光等方(fang)法加👨❤️👨熱🐅膜(mó)料🍓,使膜料(liào)蒸發或升(shēng)華,氣化爲(wei)具有一定(dìng)能量(0.1~0.3eV)的粒(li)子(原子、分(fen)子或原子(zǐ)團)。氣态粒(li)子以基本(běn)無碰撞的(de)直線運動(dòng)飛速傳送(sòng)至基片,到(dào)🔞達基片表(biao)面的粒子(zi)一部分被(bei)反射,另一(yi)部分吸附(fu)在基片上(shàng)并發生表(biǎo)面擴散,沉(chén)積原子之(zhi)間産生二(er)維碰撞,形(xíng)成簇團,有(yǒu)的可能在(zài)表面短時(shí)停留後又(yòu)蒸發。
